Corrosion active du carbure de silicium

Les rรฉcents dรฉveloppements techniques dans les domaines de lโ€™aรฉronautique, du spatial et de la propulsion entretiennent la demande en matรฉriaux avancรฉs de plus en plus performants en termes de rรฉsistance aux milieux sรฉvรจres. En effet, les matรฉriaux employรฉs pour de telles applications doivent รชtre capables de fonctionner, sous des pressions de lโ€™ordre de la centaine dโ€™atmosphรจres, ร  des tempรฉratures excรฉdant 2000ยฐC, et en prรฉsence dโ€™environnements gazeux de grande vรฉlocitรฉ dont la composition chimique complexe peut inclure diffรฉrentes espรจces oxydantes ou corrosives telles que CO2(g), H2O(g) ou encore HCl(g). Les barriรจres thermiques et environnementales sont des revรชtements de surface ร  base de cรฉramiques rรฉfractaires dont la fonction est prรฉcisรฉment dโ€™assurer au matรฉriau une protection efficace face aux attaques physico-chimiques provoquรฉes par de tels milieux gazeux.

Corrosion active du carbure de siliciumย 

Au contact dโ€™espรจces oxydantes telles que le dioxygรจne, la vapeur dโ€™eau, ou encore le dioxyde de carbone, le carbure de silicium peut, sous certaines conditions, subir une oxydation dite ยซ active ยป, c’est-ร -dire une oxydation qui nโ€™implique pas la formation dโ€™une phase solide en surface. Ce mode dโ€™oxydation, favorisรฉ aussi bien par les hautes tempรฉratures que par les faibles pressions partielles en espรจces oxydantes, se traduit par une attaque directe des espรจces oxydantes sur la surface du matรฉriau alors laissรฉe ร  nu et sans protection, et une dรฉgradation rapide de ce dernier.

Les gaz contenant du chlore sont รฉgalement connus pour attaquer SiC ร  haute tempรฉrature, en entraรฎnant la formation dโ€™une couche de carbone et de chlorures de silicium gazeux SiClx .

Corrosion active du carbure de silicium par les gaz oxydants : O2, CO2, H2Oย 

Gรฉnรฉralitรฉs

Lโ€™oxydation active du carbure de silicium est favorisรฉe par les basses pressions partielles en espรจces oxydantes et les hautes tempรฉratures. Elle se traduit par la formation de monoxyde de silicium gazeux, ainsi que dโ€™une espรจce carbonรฉe (CO(g), CO2(g) ou C(s)) dont la nature dรฉpend des paramรจtres de lโ€™environnement [SIC93,NAR95]. Dans le cas de lโ€™oxydation active par la vapeur dโ€™eau, elle induit รฉgalement la formation de dihydrogรจne gazeux [KIM89].

Approche thรฉorique : Modรจle de Wagnerย 

Wagner a dรฉveloppรฉ un modรจle permettant de dรฉcrire les cinรฉtiques dโ€™oxydation active pour le silicium, et dโ€™exprimer la constante de vitesse linรฉaire kact en fonction des paramรจtres physiques de lโ€™environnement [WAG58]. Ce modรจle a ensuite รฉtรฉ adaptรฉ au cas de SiC [KIM89, NAR91]. Le modรจle de Wagner, suppose que la rรฉactivitรฉ propre de la rรฉaction chimique hรฉtรฉrogรจne est infiniment grande devant celle des phรฉnomรจnes de transfert de masse, et donc que la composition du gaz ร  lโ€™interface gaz/solide peut รชtre assimilรฉe ร  un รฉtat dโ€™รฉquilibre thermodynamique hรฉtรฉrogรจne. La vitesse de la rรฉaction dโ€™oxydation active est dans ce cas รฉquivalente, ร  un facteur de masse et de stoechiomรฉtrie prรจs, aux flux de diffusion ร  travers une couche limite des espรจces intervenant dans la rรฉaction.

Dรฉgradation du carbure de silicium en milieu mixte dโ€™oxydation/chloruration

Le comportement du carbure de silicium en prรฉsence de mรฉlange gazeux type Ar/Cl2/O2 a รฉtรฉ รฉtudiรฉ par diffรฉrents auteurs entre 900 et 1200ยฐC [MNA86, MAR88, IP92]. Ces รฉtudes ont montrรฉ que tant quโ€™il nโ€™y avait pas assez de dioxygรจne dans la phase gazeuse pour permettre la formation dโ€™une couche de silice, le carbure de silicium รฉtait majoritairement consommรฉ pour former SiCl4 (g) et des oxydes de carbone gazeux, mais pas du monoxyde de silicium gazeux. Ces observations sont en bon accord avec lโ€™รฉtude thermodynamique de McNallan [MNA86] qui prรฉvoit รฉgalement une augmentation avec la tempรฉrature des pressions partielles en SiCl3 (g) et SiO(g) ร  lโ€™interface gaz/solide.

Les vitesses de corrosion dรฉcroissent brutalement dรจs lors que la silice condensรฉe se forme. Cette derniรจre est en effet peu sensible ร  lโ€™attaque des espรจces chlorรฉes [MAR88].

Corrosion passive du carbure de silicium

Formation dโ€™oxyde condensรฉ et passivation du carbure de siliciumย 

Gรฉnรฉralitรฉs

Lorsque la tempรฉrature diminue, ou que les pressions partielles en espรจces oxydantes augmentent, le carbure de silicium est susceptible dโ€™รชtre oxydรฉ selon un mode dโ€™oxydation dit mode dโ€™oxydation ยซ passif ยป. Ce mode se traduit par la formation ร  la surface du matรฉriau dโ€™une couche condensรฉe de dioxyde de silicium ร  travers laquelle doivent diffuser les espรจces oxydantes avant de pouvoir attaquer la surface de SiC. La prรฉsence de cette couche de SiO2 permet ainsi, dans la plupart des cas, de freiner la dรฉgradation du matรฉriau et de lui assurer une relative protection ร  la corrosion [DEA65].

Approche thรฉorique : modรจle de Deal & Grove

Modรจle de Deal & Groveย 

En 1965, B.E. Deal et A.S Grove ont dรฉveloppรฉ un modรจle dรฉcrivant dโ€™un point de vue cinรฉtique lโ€™oxydation ยซ passive ยป du silicium sous oxygรจne et sous vapeur dโ€™eau [DEA65]. Ce modรจle a ensuite รฉtรฉ extrapolรฉ au cas du carbure de silicium [ZHE90-2].

Selon ce modรจle, le mรฉcanisme de croissance de la couche de silice se dรฉcompose en cinq รฉtapes principales :
– Lโ€™adsorption des espรจces oxydantes ร  la surface externe de SiO2
– La diffusion de lโ€™oxygรจne ร  travers la couche de SiO2
– La rรฉaction ร  lโ€™interface SiC/ SiO2
– La diffusion des produits gazeux de lโ€™interface SiC/SiO2 vers lโ€™extรฉrieur au travers de la couche dโ€™oxyde.
– La dรฉsorption des produits gazeux ร  la surface externe de SiO2.

Limites du modรจle de Deal & Grove et autres modรจlesย 

Il a รฉtรฉ montrรฉ que le modรจle de Deal & Grove sous-estime la vitesse de croissance des couches dโ€™oxyde dans le domaine des รฉpaisseurs dโ€™oxyde infรฉrieure ร  25 nm [YAM08]. Plusieurs modรจles alternatifs ont รฉtรฉ proposรฉs afin dโ€™expliquer ces observations. Lโ€™un dโ€™entre eux suppose que la cinรฉtique de croissance de lโ€™oxyde nโ€™est jamais limitรฉe par la rรฉaction chimique, et que le rรฉgime linรฉaire initial correspond ร  une cinรฉtique limitรฉe par la diffusion des espรจces au sein dโ€™une couche dโ€™รฉpaisseur constante (de lโ€™ordre de la dizaine de nanomรจtres) situรฉe ร  proximitรฉ lโ€™interface SiC/SiO2 et dans laquelle le coefficient de diffusion de lโ€™oxygรจne est trรจs faible [JAC93]. Un autre modรจle considรจre que la rรฉaction chimique nโ€™est pas limitรฉe ร  lโ€™interface SiC/SiO2 mais ร  toute une zone de rรฉaction dโ€™une รฉpaisseur proche de 12nm. [JIM03]. Certains auteurs ont mis en รฉvidence la formation dโ€™un milieu oxycarbure Si-O-C ร  proximitรฉ de lโ€™interface SiC/SiO2 [RAD02]. Les oxycarbures de silicium sont cependant connus pour se dรฉcomposer au-delร  de 1500ยฐC [SOR99]. Il existe รฉgalement un modรจle reposant sur la formation, la diffusion et lโ€™oxydation de SIO(g) pour former SiO2(c) au sein de la couche de silice [TAK97].

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Table des matiรจres

INTRODUCTION
CHAPITRE I : ETAT DE Lโ€™ART SUR LA CORROSION DU CARBURE DE SILICIUM A HAUTE TEMPERATURE
Introduction
I) Corrosion active du carbure de silicium
1.1) Corrosion active du carbure de silicium par les gaz oxydants O2, CO2, H2O
1.2) Corrosion active du carbure de silicium par les gaz chlorรฉs Cl2, HCl
II) Corrosion passive du carbure de silicium
2.1) Formation dโ€™oxyde condensรฉ et passivation du carbure de silicium
2.2) Formation et volatilisation subsรฉquente de lโ€™oxyde
III) Transition active/passive dans lโ€™oxydation du carbure de silicium
3.1) Observations expรฉrimentales
3.2) Le modรจle de Heuer et Lou et ses dรฉrivรฉs
3.3) Le modรจle de Wagner et ses dรฉrivรฉs
Conclusion
CHAPITRE II : NOUVEAUX MOYENS EXPERIMENTAUX POUR L ETUDE DE LA CORROSION DE SiC A TRES HAUTE TEMPERATURE
Introduction
I) Four de corrosion ร  effet Joule
1.1) Description du dispositif expรฉrimental
1.2) Analyse in-situ de la dรฉgradation de lโ€™รฉchantillon par lโ€™รฉtude de lโ€™รฉvolution des grandeurs รฉlectriques
1.3) Analyse in-situ de la vitesse de croissance dโ€™oxyde par une mรฉthode dโ€™interfรฉromรฉtrie bichromatique
1.4) Bilan et limites du four de corrosion ร  effet Joule
II) Four de corrosion ร  images dโ€™arcs
2.1) Description du dispositif expรฉrimental
2.2) Mesure de le tempรฉrature au sein du four de corrosion ร  images dโ€™arcs
2.3) Bilan et limites du four de corrosion ร  images dโ€™arcs
Conclusion
CHAPITRE III : MODELISATION DE LA CORROSION DE SiC PAR LES MELANGES GAZEUX A TRES HAUTE TEMPERATURE
Introduction
I) Notion de cinรฉtique et de thermodynamique hรฉtรฉrogรจnes
1.1) Notions de cinรฉtique hรฉtรฉrogรจne
1.2) Notions de thermodynamique hรฉtรฉrogรจne
II) Description du modรจle
2.1) Objectifs et stratรฉgie de simulation
2.2) Description physico-chimique du problรจme considรฉrรฉ
2.3) Traitement du modรจle, simulation sous FLUENT
III) Validation de la description thรฉorique des รฉchanges thermiques
3.1) Rรฉsultats thรฉoriques
3.2) Rรฉsultats expรฉrimentaux et discussion
IV) Etude thรฉorique du comportement en corrosion de SiC par les mรฉlanges gazeux rรฉactifs et exemples de rรฉsulats
4.1) Etude de lโ€™oxydation active de SiC ร  1800ยฐC sous Ar/O2 ร  pression atmosphรฉrique
4.2) Etude de la transition active/passive de SiC sous Ar/O2 selon une approche type Wagner
4.3) Etude de la volatilisation de SiO2 ร  1800ยฐC sous Ar/O2 ร  pression atmosphรฉrique
Conclusion
CHAPITRE IV : CORROSION ACTIVE DE SiC PAR LES MELANGES GAZEUX REACTIFS A TRES HAUTES TEMPERATURES
Introduction
I) Corrosion active de SiC par les mรฉlanges Ar/O2, Ar/CO2 et Ar/H2O
1.1) Corrosion active de SiC sous Ar/O2
1.2) Corrosion active de SiC sous Ar/H2O et sous Ar/CO2
II) Corrosion active de SiC par les mรฉlanges Ar/O2/CO2 et Ar/O2/H2O
2.1) Corrosion de SiC ร  1800ยฐC par des mรฉlanges Ar/O2/CO2 ร  P= 1 atm
2.2) Corrosion de SiC ร  1800ยฐC par des mรฉlanges Ar/O2/H2O ร  P= 1 atm
2.3) Bilan
Conclusion
CONCLUSION

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