Cellule a jonction verticale multiple

En raison du dรฉveloppement de lโ€™industrie, du transport et des moyens de tรฉlรฉcommunications; une forte croissance de la consommation mondiale en รฉlectricitรฉ a รฉtรฉ observรฉe durant ces derniรจres dรฉcennies. Cependant une grande partie de cette รฉlectricitรฉ produite, est obtenue par combustion ร  partir de sources dโ€™origine fossile (pรฉtrole, charbon, carbone) dont le dรฉlai dโ€™รฉpuisement est estimรฉ ร  quelques annรฉes. Cโ€™est ainsi que des recherches scientifiques se sont orientรฉs vers dโ€™autres sources dโ€™รฉnergie alternative dites renouvelables et notamment vers la plus ancienne le rayonnement solaire.

En effet le soleil est une source inรฉpuisable, non polluante, la plus prometteuse et la plus puissante parmi les autres sources dโ€™รฉnergies renouvelables; il dรฉverse chaque jour lโ€™รฉquivalent de 100 000 milliards de T.E.P (tonne รฉquivalent pรฉtrole) autant de facteur qui font de lโ€™รฉnergie solaire une solution alternative voir adรฉquate face aux problรจmes engendrรฉs par la production dโ€™รฉnergie fossile et nuclรฉaire. Lโ€™obtention de cette รฉlectricitรฉ dโ€™origine solaire repose sur la technologie des semiconducteurs qui consiste ร  utiliser les photons pour libรฉrer des รฉlectrons et crรฉer une diffรฉrence de potentiel entre les bornes de la cellule, qui gรฉnรจre un courant รฉlectrique continu : cโ€™est lโ€™effet photovoltaรฏque dรฉcouvert en 1839 par le physicien franรงais E. Becquerel. Les dispositifs physiques responsables de cette conversion porte le nom de photopiles ou cellules solaires qui sont en rรฉalitรฉ des diodes semi-conductrices ร  grande surface dont la jonction p-n est situรฉe juste sous la surface. Les plus rรฉpandues sont constituรฉes de semiconducteurs principalement ร  base de silicium (Si) et plus rarement dโ€™autres semi-conducteurs tels que le sulfure de cadmium (CdS), le tellurure de cadmium (CdTe) .

CELLULE A JONCTION VERTICALE MULTIPLE

Cellules ร  jonction verticale connectรฉes en sรฉrie

Les cellules ร  jonction verticale [I-9] ouvrent de nouvelles possibilitรฉs dโ€™amรฉlioration du rendement des cellules solaires au silicium avec de courtes longueurs de diffusion.

Cellules ร  jonction verticale connectรฉes en parallรจle

Pour une modรฉlisation simple des paramรจtres de la photopile, les auteurs รฉmettent les hypothรจses suivantes :
โ–ย Pas de recombinaisons ร  la face avant et en face arriรจre.
โ–ย Pas de rรฉflexion sur les surfaces.
โ–ย Les recombinaisons ร  la zone de charge dโ€™espace sont nรฉgligeables [I-11].
โ– Le taux de gรฉnรฉration est fonction de la profondeur z, une diffusion unidirectionnelle des porteurs minoritaires en excรจs est considรฉrรฉe. Cela leur permet de faire une modรฉlisation simple des paramรจtres de la photopile .

GENERALITE SUR LES TAUX DE GENERATION

Lorsque la photopile est รฉclairรฉe par une radiation convenable (โ„Ž? > ??), il y a photocrรฉation de paires รฉlectron-trou sous une vitesse diminuant de faรงon exponentielle en profondeur de la base ; cette vitesse de gรฉnรฉration est mesurรฉe par le taux de gรฉnรฉration G. Ce taux tient compte aussi de la composition du spectre solaire [I-12].

Son expression dรฉpend de la nature de lumiรจre avec laquelle lโ€™รฉclairement se fait.

Pour un รฉclairement monochromatique constantย 

โœ”ย En rรฉgime statique :
Lorsque la cellule solaire est illuminรฉe par un faisceau monochromatique, le taux de gรฉnรฉration est donnรฉe par :

?(?, ?) = ?? โˆ— (1 โˆ’ ??) โˆ— ?? โˆ— ?โˆ’??โˆ—? + ?0(?) (?. ?)

Oรน ??, ?? ?? ?? sont respectivement le coefficient dโ€™absorption, le coefficient de rรฉflexion, et de photon incident ร  la longueur dโ€™onde ?, et ?0(?) est le taux de gรฉnรฉration homogรจne due ร  la polarisation de la lumiรจre.

Pour un รฉclairement en face avant son expression demeure la mรชme (1.7) et pour la face arriรจre :

?(?, ?) = ?? โˆ— (1 โˆ’ ??) โˆ— ?? โˆ— ?โˆ’??(?โˆ’?) + ?0(?) (?. ?)

Pour un รฉclairement simultanรฉ son expression sera donnรฉe par la somme des contributions en face avant et arriรจre.

โœ”ย En rรฉgime dynamique transitoire :
Pour lโ€™intervalle de temps ? < ?1, la photopile est soumise uniquement ร  une source lumineuse blanche. Dรจs lโ€™instant que ? = ?1, elle est excitรฉe en plus de la lumiรจre blanche, par un faisceau monochromatique pulsรฉ que lโ€™on coupera ร  un instant ultรฉrieur ? = ?2. Lโ€™expression du t aux de gรฉnรฉration demeure ainsi le mรชme que ceux obtenus en rรฉgime statique. Durant la pรฉriode ?1 < ? < ?2 la photopile excitรฉe par deux รฉclairements et รฉvolue vers un autre รฉtat stationnaire pour t tendant vers ?2. Avant la coupure du faisceau pulsรฉ, le taux de gรฉnรฉration globe tient compte des vitesses de gรฉnรฉration G(x) et g(x) dues respectivement ร  lโ€™รฉclairement constant et au faisceau pulsรฉ [I-14].

โœ”ย En rรฉgime dynamique frรฉquentiel
Pour ce rรฉgime le taux de gรฉnรฉration dรฉpend du temps et aussi de la profondeur illuminรฉe. Et sa forme est donnรฉe en gรฉnรฉrale :

?(?,?) = ?(?)?โˆ’?.?.?

Oรน ?โˆ’?.?.? reprรฉsente la partie temporelle.

Pour un rรฉgime frรฉquentiel rรฉsultant dโ€™une excitation optique dโ€™un รฉchantillon de matรฉriau semi-conducteur. Le taux de gรฉnรฉration optique est sous la forme suivante [I-15]:

?(?,?) = ?(?) โˆ— ?0(?) โˆ— ?(?) โˆ— ???[โˆ’?(?) โˆ— (? + ?)] (?. ??)

Etude en rรฉgime statique dโ€™une photopile ร  jonction verticale

PRESENTATION DE LA PHOTOPILE A JONCTION VERTICALEย 

On se focalisera sur une photopile pour laquelle la base est de type (p) ; cette derniรจre est la rรฉgion gรฉnรฉrant la plus grande partie du photocourant. Cโ€™est ainsi que les รฉlectrons constituent dans cette base les porteurs de charges minoritaires en excรจs.

La photopile ร  jonction verticale sur laquelle portera notre รฉtude est quant ร  elle conรงue de telle sorte que les faces dโ€™รฉclairement soient perpendiculaires ร  la disposition habituelle. Donc les rayons incidents dโ€™รฉclairement verticaux seront parallรจles au plan de la jonction.

A lโ€™image de la photopile bifaciale, elle est constituรฉe de:
โžค une zone frontale dopรฉe en atome donneurs (n) avec un fort taux de dopage (10ยนโท ร  10ยนโน atomes.cm- 3 ) et dont lโ€™รฉpaisseur est trรจs faible (moins de 1ยตm), qui est appelรฉe รฉmetteur oรน les porteurs minoritaires sont les trous.
โžค une seconde zone de type p, peu dopรฉe en atomes accepteurs (10ยนโต ร  10ยนโท atomes.cm- 3 ), mais dont lโ€™รฉpaisseur est beaucoup plus significative (jusquโ€™ร  400ยตm) dictรฉe par le coefficient dโ€™absorption du silicium, cโ€™est la base (P) oรน les porteurs minoritaires ici sont les รฉlectrons.
โžค une zone qui sรฉpare lโ€™รฉmetteur de la base, appelรฉe zone de charge dโ€™espace (ZCE) oรน rรฉside un champ รฉlectrique intense qui sรฉpare les paires รฉlectron-trous qui arrivent ร  la jonction. [II-1] et [II-2].

Fonctionnement de la photopile :
Lorsque la photopile est รฉclairรฉe elle absorbe des photons incidents dโ€™รฉnergie supรฉrieure ou รฉgale ร  celle du gap du matรฉriau semi conducteur constituant la cellule solaire. Chaque photon absorbรฉ donne naissance ร  une paire dโ€™รฉlectron-trou, ces porteurs de charges sont sรฉparรฉs par un champ รฉlectrique permanent et indestructible.

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Table des matiรจres

INTRODUCTION GENERALE
CHAPITRE I
I-1.INTRODUCTION
I-2 CELLULE A JONCTION VERTICALE MULTIPLE
I-2-1 Cellules ร  jonction verticale connectรฉes en sรฉrie
I-2-2 Cellules ร  jonction verticale connectรฉes en parallรจle
I-2-3 Equation de continuitรฉ
I-3 GENERALITE SUR LES TAUX DE GENERATION
I-3-1 Pour un รฉclairement monochromatique
I-3-2 Pour un รฉclairement polychromatique
I-4 CONCLUSION
CHAPITRE II
II-1 INTRODUCTION
II-2 PRESENTATION DE LA PHOTOPILE A JONCTION VERTICALE
II-3 ETUDE DE LA DENSITE DES PORTEURS MINORITAIRES DANS LA BASE
II-3-1 Rรฉsolution de lโ€™รฉquation de continuitรฉ
II-3-2 Condition aux limites
II-3-3 Dรฉtermination des constantes a0et a1
II-3-4 Profil de la densitรฉ des porteurs minoritaires dans la base en fonction de lโ€™รฉpaisseur x de la base
II-3-4-1 Effet de la profondeur de la base sur la densitรฉ des porteurs de charges
II-3-5 Etude de la densitรฉ des porteurs minoritaires dans la base en fonction de la profondeur z
II-4 ETUDE DE LA DENSITE DE PHOTOCOURANT
II-4-1 Expression de la densitรฉ de photocourant
II-4-2 Profil de la densitรฉ du photocourant en fonction de la vitesse de recombinaison ร  la jonction
II-4-3 Effet de la profondeur de la base sur la densitรฉ de photocourant
II-5 ETUDE DE LA PHOTOTENSION AUX BORNES DE LA PHOTOPILE
II-5-1 Profil de la phototension en fonction de la vitesse de recombinaison ร  la jonction
II-5-2 Effet de la profondeur sur la phototension
II-6 CARACTERISTIQUES I-V DE LA PHOTOPILE
II-6-1 Effet de la profondeur sur la caractรฉristique I-V
II-7 CONCLUSION
CONCLUSION GENERALE
BIBLIOGRAPHIE
ANNEXE MATHEMATIQUES

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